更新時(shí)間:2025-10-10
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# 2025年新品發(fā)布會(huì)#
日期:2025年10月10日
時(shí)間:8:30-18:30
近期我司新推出升級(jí)了 ESA70WN適用于半導(dǎo)體、LCD制造等行業(yè)的腔室快速抽真空需求
排量性能
極限真空度可達(dá)0.001Pa(10?3mbar),滿足高精度工藝的真空環(huán)境要求。
結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)
干式無(wú)油設(shè)計(jì),避免油污染風(fēng)險(xiǎn),特別適合MO-CVD、光刻等對(duì)潔凈度要求高的場(chǎng)景。
多級(jí)螺桿壓縮技術(shù),結(jié)合同步齒輪驅(qū)動(dòng),實(shí)現(xiàn)低振動(dòng)(<4.5mm/s)和低噪音(<75dB)運(yùn)行。
材料與兼容性
泵腔采用耐腐蝕合金(如316L不銹鋼),可處理氫氣、有機(jī)溶劑等腐蝕性氣體。
可選配PTFE涂層版本,增強(qiáng)對(duì)酸性氣體的耐受性。
高效排氣:高排量設(shè)計(jì)縮短腔室抽氣時(shí)間,提升半導(dǎo)體產(chǎn)線吞吐效率。
穩(wěn)定性強(qiáng):智能監(jiān)測(cè)系統(tǒng)實(shí)時(shí)追蹤軸承溫度、振動(dòng)等參數(shù),預(yù)測(cè)性維護(hù)準(zhǔn)確率達(dá)98%。
節(jié)能環(huán)保:IE5超高效電機(jī)(能效≥0.95)配合無(wú)油設(shè)計(jì),降低能耗與廢液處理成本。
半導(dǎo)體制造
晶圓鍍膜腔室的快速抽真空,減少工藝等待時(shí)間。
光刻膠曝光后的殘余氣體排除,避免污染敏感元件。
顯示面板生產(chǎn)
LCD濺射設(shè)備的真空維持,確保薄膜均勻性。
有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)封裝腔室的氣體置換。
化工與科研
實(shí)驗(yàn)室真空干燥系統(tǒng)的氣體回收,兼容有機(jī)溶劑。
光伏電池鍍膜工藝的惰性氣體環(huán)境控制