# 2025年新品發布會#

日期：2025年2月11日

時間：8：30-18：30

近期我司新推出升級了HORIBA堀場磷酸濃度監測儀CS-620F

無需冷卻即可實時測量高溫磷酸的磷酸濃度監測儀。 非常適合控制半導體制造工藝中使用的磷酸濃度，主要是3D NAND閃存的SiN層*1 蝕刻工藝。 *1 SiN層：在硅晶片等上形成的硅和氮化合物的薄膜。

高濃度/高溫兼容 循環管路中高濃度（高達92%）、高溫（140-170℃）的磷酸無需冷卻即可直接測量，因此無需冷卻機構或冷卻時間。 污染風險低 通過使用 PFA 作為樣品連接部分，可以降低污染風險。 為了更快的反饋控制 每3秒更新一次測量數據的實時測量實現了高速濃度反饋控制。 減少設備停機時間 使用半年一次的背景校正周期可以減少設備停機時間。